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多晶硅靶 高纯硅靶材5N 本征硅靶/P型/N型 规格尺寸可按需定制

 
单价: 150.00元/千克
起订: 1 千克
供货总量: 126 千克
发货期限: 自买家付款之日起 7 天内发货
所在地: 湖南 长沙市
有效期至: 长期有效
最后更新: 2023-12-05 10:26
浏览次数: 373
 
公司基本资料信息
详细说明

商品描述

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  硅溅射靶材为深灰色。硅在室温下为固体,熔点为1,414°C(2,577°F),沸点为3,265°C(5,909°F)。像水一样,与大多数其他物质不同,它在液态时的密度比固态时更大,并且在冻结时会膨胀。硅具有149 W•m-1•K-1的较高导热系数,导热性很好。硅溅射靶材主要用于反应磁控溅射中,以沉积SiO2和SiN等介电层。作为重要的功能性薄膜材料,它们具有良好的硬度,光学,介电性能和耐磨性。硅靶材的耐腐蚀性在光学和微电子领域具有广阔的应用前景,并且目前在世界范围内被广泛用作功能材料。目前,它主要用于LCD透明导电玻璃,建筑LOW-E玻璃和微电子行业。硅溅射靶可分为两种:单晶和多晶。我们通过直拉晶体生长方法生产平面硅溅射靶。

 

 

硅靶材制备工艺流程

 

备料 - 真空电子束熔炼 - 金刚石线切割 - 退火 - 机加工 - 尺寸检测 - 清洗 - 终检 - 包装

 

 

 

硅溅射靶材的应用

 

 

主要用于半导体芯片、平板液晶显示器(LCD)、装饰和功能镀膜工业、太阳能电池板、数据储存工业(光盘工业)、光通讯工业、玻璃镀膜(建筑玻璃和汽车玻璃)工业、抗腐蚀抗磨损(表面改性)等领域。

 

 

 

硅靶材的其他合金形式

 

硅铝、铜硅、镍铬硅合金靶材等。

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